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當前位置:首頁產品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD桌面式濺射儀

桌面式濺射儀

產品簡介

桌面式濺射儀KT-Z1650PVD是一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧,但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶,自動樣品擋板,可調節(jié)濺射源距離,觸摸屏控制,工藝儲存等功能,方便快捷。

產品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:1146
詳細介紹在線留言
品牌鄭科探濺射氣體根據需求通氣
樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材質金 鉑 銅 銀 等價格區(qū)間面議
產地類別國產應用領域化工,電氣

桌面式濺射儀KT-Z1650PVD水冷式濺射源,可實現(xiàn)高功率持續(xù)運行,有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節(jié),及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。

     電子電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛倫茲力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內,該區(qū)域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長。


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桌面式濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數;

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




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