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小型坩堝真空蒸鍍儀

產品簡介

小型坩堝真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機是鄭州科探儀器設備有限公司生產,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。 通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面。

產品型號:KT-Z1650CVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:1387
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品牌鄭科探產地類別國產
應用領域化工,電子

小型坩堝真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD


小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。
通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、AuNi等材料。以下為蒸發(fā)鍍膜設備的示意圖。

637852663611845859665.jpg

以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

637858771737832260197.png   原樣品沒有鍍膜                       637858771732996198687.png  115A 100秒 機械泵

637858771732840196319.png115A 100秒 分子泵抽12分鐘    637858771732684194803.png  115A 120秒 分子泵抽20分鐘


真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色


小型坩堝真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

加熱方式

數(shù)字式功率調整器

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

最大功率

1200W

最大輸出電壓電流

電壓≤12V  電流≤120A

真空度

機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉φ62  (最大可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8/分鐘

樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調節(jié)

1800

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

預留真空接口

KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa



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