高溫真空蒸鍍儀，是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 Al. Mg, 和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑為50mm.。標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節(jié)，非常容易適應各種樣品座。可選的樣品臺具有特殊的凹槽，可放置標準的載玻片，這在“石棉分析"需要鍍碳層時尤為有利。
碳棒頭在儀器中作為標準件。這是一個“快速釋放頭"，使用戶在選擇金屬蒸發(fā)附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地更換。放氣系統(tǒng)具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，并且可安全地“關閉"直接通大氣。
優(yōu)點
● 容易操作
● 均勻的樣品涂層
● 方便多用戶操作
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬
● 在排氣過程中可防止樣品損壞
● 碳棒或碳絲蒸發(fā)

以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖

  原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒 機械泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘      115A 120秒 分子泵抽20分鐘

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色

高溫真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD